各种磁控溅射纯金属及合金靶材，纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长。拥有两项国家授权专利：采用最先进工艺生产的纯金属Cr靶（专利号：ZL 93 1 01604.5）和科学先进新颖的靶材结构设计（专利号：ZL 99 2 43973.6）。产品规格齐全，包括圆形、环形、矩形和管形等各种形状，尺寸可根据用户的要求定制。生产的靶材广泛应用于大面积装饰玻璃镀膜、耐磨镀膜、电子行业CD、VCD等各类光碟以及各种磁碟镀膜等。产品市场占有率高，并远销美国、日本及台湾等国家和地区。